合肥工业大学学报（自然科学版）
閤肥工業大學學報（自然科學版）
합비공업대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF HEFEI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY(NATURAL SCIENCE)
2012年
11期
1496-1499
,共4页
多晶硅薄膜%低压化学气相沉积%表面形貌%X射线衍射
多晶硅薄膜%低壓化學氣相沉積%錶麵形貌%X射線衍射
다정규박막%저압화학기상침적%표면형모%X사선연사
文章利用低压化学气相沉积法(LPCVD),在单晶Si衬底上制备多晶Si薄膜.利用原子力显微镜观察薄膜厚度和镀膜温度对多晶Si薄膜表面形貌的影响,并利用XRD研究退火温度对多晶Si薄膜结晶性能的影响.结果表明:镀膜温度越高、薄膜越厚,薄膜的晶粒尺寸越大;退火温度越高,薄膜的结晶越好.
文章利用低壓化學氣相沉積法(LPCVD),在單晶Si襯底上製備多晶Si薄膜.利用原子力顯微鏡觀察薄膜厚度和鍍膜溫度對多晶Si薄膜錶麵形貌的影響,併利用XRD研究退火溫度對多晶Si薄膜結晶性能的影響.結果錶明:鍍膜溫度越高、薄膜越厚,薄膜的晶粒呎吋越大;退火溫度越高,薄膜的結晶越好.
문장이용저압화학기상침적법(LPCVD),재단정Si츤저상제비다정Si박막.이용원자력현미경관찰박막후도화도막온도대다정Si박막표면형모적영향,병이용XRD연구퇴화온도대다정Si박막결정성능적영향.결과표명:도막온도월고、박막월후,박막적정립척촌월대;퇴화온도월고,박막적결정월호.
