机电工程技术
機電工程技術
궤전공정기술
MACHANICAL & ELECTRICAL ENGINEERING TECHNOLOGY
2012年
10期
84-87
,共4页
化学机械抛光%磁流变抛光%复合抛光
化學機械拋光%磁流變拋光%複閤拋光
화학궤계포광%자류변포광%복합포광
针对SiC晶片外延膜生长需达到原子级超光滑表面的要求以及加工效率低、表面精度差的问题,提出了一套磁流变-化学机械精密抛光装置,该装置利用软件平台对抛光盘和工件运动精确控制,并具有温度、转速等参数微调及显示功能.对装置的工作原理、结构进行了介绍,并在该装置上进行了工艺试验,取得较高的加工效率和光滑无损伤的加工表面.
針對SiC晶片外延膜生長需達到原子級超光滑錶麵的要求以及加工效率低、錶麵精度差的問題,提齣瞭一套磁流變-化學機械精密拋光裝置,該裝置利用軟件平檯對拋光盤和工件運動精確控製,併具有溫度、轉速等參數微調及顯示功能.對裝置的工作原理、結構進行瞭介紹,併在該裝置上進行瞭工藝試驗,取得較高的加工效率和光滑無損傷的加工錶麵.
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