中国有色金属学报
中國有色金屬學報
중국유색금속학보
THE CHINESE JOURNAL OF NONFERROUS METALS
2012年
8期
2289-2294
,共6页
轴承合金%AlSn20/C镀层%耐蚀性%自腐蚀电位
軸承閤金%AlSn20/C鍍層%耐蝕性%自腐蝕電位
축승합금%AlSn20/C도층%내식성%자부식전위
采用非平衡磁控溅射技术在铝基轴承合金表面制备 AlSn20/C 复合镀层,通过扫描电镜形貌观察、交流阻抗和极化曲线的测量研究石墨靶电流对镀层组织与耐蚀性能的影响.结果表明:在电流0.2~0.8 A范围内,薄膜均以层状结构生长,且电流越小,薄膜组织越致密;镀膜后试样的电化学阻抗比基体的高5~6个数量级,石墨靶电流为0.2 A时,可将基体的自腐蚀电位由?1.42 V提高到?1.18 V,石墨靶电流是影响AlSn20/C复合镀层耐蚀性的一个重要因素,石墨靶电流越小,其耐蚀性越好.
採用非平衡磁控濺射技術在鋁基軸承閤金錶麵製備 AlSn20/C 複閤鍍層,通過掃描電鏡形貌觀察、交流阻抗和極化麯線的測量研究石墨靶電流對鍍層組織與耐蝕性能的影響.結果錶明:在電流0.2~0.8 A範圍內,薄膜均以層狀結構生長,且電流越小,薄膜組織越緻密;鍍膜後試樣的電化學阻抗比基體的高5~6箇數量級,石墨靶電流為0.2 A時,可將基體的自腐蝕電位由?1.42 V提高到?1.18 V,石墨靶電流是影響AlSn20/C複閤鍍層耐蝕性的一箇重要因素,石墨靶電流越小,其耐蝕性越好.
채용비평형자공천사기술재려기축승합금표면제비 AlSn20/C 복합도층,통과소묘전경형모관찰、교류조항화겁화곡선적측량연구석묵파전류대도층조직여내식성능적영향.결과표명:재전류0.2~0.8 A범위내,박막균이층상결구생장,차전류월소,박막조직월치밀;도막후시양적전화학조항비기체적고5~6개수량급,석묵파전류위0.2 A시,가장기체적자부식전위유?1.42 V제고도?1.18 V,석묵파전류시영향AlSn20/C복합도층내식성적일개중요인소,석묵파전류월소,기내식성월호.
