硅谷
硅穀
규곡
SILICON VALLEY
2013年
7期
38-39
,共2页
张文斌%周益豪%周次心%邵志松
張文斌%週益豪%週次心%邵誌鬆
장문빈%주익호%주차심%소지송
铝合金%微弧氧化%硅酸盐体系%耐磨性
鋁閤金%微弧氧化%硅痠鹽體繫%耐磨性
려합금%미호양화%규산염체계%내마성
在硅酸盐体系下对2024铝合金进行微弧氧化反应,通过改变 Na2SiO3·9H20与 KOH 的比例研究其对微弧氧化的起弧电压,薄膜的致密度,厚度耐磨性能的影响.结果表明:随着 Na2Si03浓度升高,膜层厚度增加;KOH 浓度的提高显著提高电解液的导电率及氧化膜层的质量,降低工作电压.通过本工艺制备薄膜硬度高,耐磨性好,得到了本实验条件下的最佳氧化电解液浓度配比.
在硅痠鹽體繫下對2024鋁閤金進行微弧氧化反應,通過改變 Na2SiO3·9H20與 KOH 的比例研究其對微弧氧化的起弧電壓,薄膜的緻密度,厚度耐磨性能的影響.結果錶明:隨著 Na2Si03濃度升高,膜層厚度增加;KOH 濃度的提高顯著提高電解液的導電率及氧化膜層的質量,降低工作電壓.通過本工藝製備薄膜硬度高,耐磨性好,得到瞭本實驗條件下的最佳氧化電解液濃度配比.
재규산염체계하대2024려합금진행미호양화반응,통과개변 Na2SiO3·9H20여 KOH 적비례연구기대미호양화적기호전압,박막적치밀도,후도내마성능적영향.결과표명:수착 Na2Si03농도승고,막층후도증가;KOH 농도적제고현저제고전해액적도전솔급양화막층적질량,강저공작전압.통과본공예제비박막경도고,내마성호,득도료본실험조건하적최가양화전해액농도배비.
