环境污染与防治
環境汙染與防治
배경오염여방치
ENVIRONMENTAL POLLUTION AND CONTROL
2014年
12期
69-72
,共4页
刘新秀%王英华%刘勇弟%孙贤波
劉新秀%王英華%劉勇弟%孫賢波
류신수%왕영화%류용제%손현파
UV/H2O2-NaOH%电镀废水%铜-酒石酸络合体系
UV/H2O2-NaOH%電鍍廢水%銅-酒石痠絡閤體繫
UV/H2O2-NaOH%전도폐수%동-주석산락합체계
UV/H2O2-NaOH%electroplating wastewater%tartaric acid-copper complex system
含铜电镀废水中酒石酸等络合剂的存在,使得采用普通氢氧化物或硫化物沉淀法难以满足达标排放的要求.采用UV/H2O2-NaOH沉淀法处理铜-酒石酸络合体系模拟电镀废水,考察了光照时间、初始pH、H2O2投加量等因素对处理过程的影响.结果表明,对于铜-酒石酸络合体系(酒石酸质量浓度为418 mg/L,CuSO4·5H2O质量浓度为196 mg/L),得出的最佳处理条件为:光照时间70 min,H2O2投加量1.07 g/L,初始pH 3.0,出水中铜质量浓度可以低于0.3 mg/L的排放标准,为后续工业化应用奠定了基础.
含銅電鍍廢水中酒石痠等絡閤劑的存在,使得採用普通氫氧化物或硫化物沉澱法難以滿足達標排放的要求.採用UV/H2O2-NaOH沉澱法處理銅-酒石痠絡閤體繫模擬電鍍廢水,攷察瞭光照時間、初始pH、H2O2投加量等因素對處理過程的影響.結果錶明,對于銅-酒石痠絡閤體繫(酒石痠質量濃度為418 mg/L,CuSO4·5H2O質量濃度為196 mg/L),得齣的最佳處理條件為:光照時間70 min,H2O2投加量1.07 g/L,初始pH 3.0,齣水中銅質量濃度可以低于0.3 mg/L的排放標準,為後續工業化應用奠定瞭基礎.
함동전도폐수중주석산등락합제적존재,사득채용보통경양화물혹류화물침정법난이만족체표배방적요구.채용UV/H2O2-NaOH침정법처리동-주석산락합체계모의전도폐수,고찰료광조시간、초시pH、H2O2투가량등인소대처리과정적영향.결과표명,대우동-주석산락합체계(주석산질량농도위418 mg/L,CuSO4·5H2O질량농도위196 mg/L),득출적최가처리조건위:광조시간70 min,H2O2투가량1.07 g/L,초시pH 3.0,출수중동질량농도가이저우0.3 mg/L적배방표준,위후속공업화응용전정료기출.
