强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2015年
2期
28-31
,共4页
王飞%周再发%李伟华%黄庆安
王飛%週再髮%李偉華%黃慶安
왕비%주재발%리위화%황경안
光刻%微电子机械系统%波导%光强分布%光刻胶
光刻%微電子機械繫統%波導%光彊分佈%光刻膠
광각%미전자궤계계통%파도%광강분포%광각효
lithography%micro-electro-mechanical system%waveguide%the light intensity distribution%photoresist
光学光刻技术已广泛应用于微电子机械系统(MEMS)以及集成电路(IC)领域.由于光刻工艺设备的价格十分昂贵,因此利用光刻仿真这一技术来预期工艺结果并优化工艺中存在的问题就显得很有必要.研究了一种基于严格电磁场模型的求解方法——波导方法,并将此方法拓展应用于模拟MEMS领域中的厚胶曝光场景.通过这一模型,可以模拟光刻胶内部的光强分布,并进一步预测出显影后的光刻胶形貌.最后,针对某些特定掩模版结构,给出它们的仿真结果并验证其正确性.
光學光刻技術已廣汎應用于微電子機械繫統(MEMS)以及集成電路(IC)領域.由于光刻工藝設備的價格十分昂貴,因此利用光刻倣真這一技術來預期工藝結果併優化工藝中存在的問題就顯得很有必要.研究瞭一種基于嚴格電磁場模型的求解方法——波導方法,併將此方法拓展應用于模擬MEMS領域中的厚膠曝光場景.通過這一模型,可以模擬光刻膠內部的光彊分佈,併進一步預測齣顯影後的光刻膠形貌.最後,針對某些特定掩模版結構,給齣它們的倣真結果併驗證其正確性.
광학광각기술이엄범응용우미전자궤계계통(MEMS)이급집성전로(IC)영역.유우광각공예설비적개격십분앙귀,인차이용광각방진저일기술래예기공예결과병우화공예중존재적문제취현득흔유필요.연구료일충기우엄격전자장모형적구해방법——파도방법,병장차방법탁전응용우모의MEMS영역중적후효폭광장경.통과저일모형,가이모의광각효내부적광강분포,병진일보예측출현영후적광각효형모.최후,침대모사특정엄모판결구,급출타문적방진결과병험증기정학성.
