电子与封装
電子與封裝
전자여봉장
EIECTRONICS AND PACKAGING
2014年
12期
37-41
,共5页
朱红波%周祖源%何永根%秦宏志
硃紅波%週祖源%何永根%秦宏誌
주홍파%주조원%하영근%진굉지
批处理离子注入机%锥角效应%沟道效应%均匀性
批處理離子註入機%錐角效應%溝道效應%均勻性
비처리리자주입궤%추각효응%구도효응%균균성
研究主要聚焦在批处理离子注入机台的沟道效应和锥角效应,以及阐述由于这些效应导致的晶圆片上的均匀性问题和产品上的良率损失.对于高能量离子注入,如果离子注入角度设定为0°会导致严重的沟道效应,但是大角度设定又会导致光刻胶的阴影效应,所以对于注入角度的选取需要尽量小.对于越来越先进的半导体工艺技术,线宽越来越小,合适角度设定将显得尤其关键.运用二次离子质谱分析研究了控片上离子注入的分布,通过产品电性合格测试全片多点验证,表明了沟道效应和锥角效应的综合影响;得出了对于不同锥角机台合适的离子注入角度设定.
研究主要聚焦在批處理離子註入機檯的溝道效應和錐角效應,以及闡述由于這些效應導緻的晶圓片上的均勻性問題和產品上的良率損失.對于高能量離子註入,如果離子註入角度設定為0°會導緻嚴重的溝道效應,但是大角度設定又會導緻光刻膠的陰影效應,所以對于註入角度的選取需要儘量小.對于越來越先進的半導體工藝技術,線寬越來越小,閤適角度設定將顯得尤其關鍵.運用二次離子質譜分析研究瞭控片上離子註入的分佈,通過產品電性閤格測試全片多點驗證,錶明瞭溝道效應和錐角效應的綜閤影響;得齣瞭對于不同錐角機檯閤適的離子註入角度設定.
연구주요취초재비처리리자주입궤태적구도효응화추각효응,이급천술유우저사효응도치적정원편상적균균성문제화산품상적량솔손실.대우고능량리자주입,여과리자주입각도설정위0°회도치엄중적구도효응,단시대각도설정우회도치광각효적음영효응,소이대우주입각도적선취수요진량소.대우월래월선진적반도체공예기술,선관월래월소,합괄각도설정장현득우기관건.운용이차리자질보분석연구료공편상리자주입적분포,통과산품전성합격측시전편다점험증,표명료구도효응화추각효응적종합영향;득출료대우불동추각궤태합괄적리자주입각도설정.
