CAJ | 학술논문

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金刚石膜的高温氧化性能的研究
금강석막적고온양화성능적연구

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HEILONGJIANG SCIENCE AND TECHNOLOGY INFORMATION
2015年 3期 59-59 ,共1页

胡继忠%郝国栋%郭美玲鬍繼忠%郝國棟%郭美玲

호계충%학국동%곽미령

CVD金刚石膜%高温氧化%XRD衍射 CVD金剛石膜%高溫氧化%XRD衍射
CVD금강석막%고온양화%XRD연사

在CH4/H2气氛下，利用直流热阴极PCVD(Plasma chemical vapor deposition)设备制备的金刚石膜并研究其高温氧化行为。对制备的样品通过拉曼光谱仪、X射线衍射仪对其进行表征，结果表明：金刚石膜在空气中氧化优先刻蚀非晶碳石墨处，使晶界瓦解；金刚石膜氧化前后未出现石墨或其它中间产物。
재CH4/H2기분하，이용직류열음겁PCVD(Plasma chemical vapor deposition)설비제비적금강석막병연구기고온양화행위。대제비적양품통과랍만광보의、X사선연사의대기진행표정，결과표명：금강석막재공기중양화우선각식비정탄석묵처，사정계와해；금강석막양화전후미출현석묵혹기타중간산물。