材料工程
材料工程
재료공정
JOURNAL OF MATERIALS ENGINEERING
2015年
1期
44-48
,共5页
李文英%钟建%张柯%汪元元%尹桂林%何丹农
李文英%鐘建%張柯%汪元元%尹桂林%何丹農
리문영%종건%장가%왕원원%윤계림%하단농
退火%ZnO%Cu%透明导电薄膜
退火%ZnO%Cu%透明導電薄膜
퇴화%ZnO%Cu%투명도전박막
annealing%ZnO%Cu%transparent conductive film
室温下利用磁控溅射制备了ZnO/Cu/ZnO透明导电薄膜,采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、霍尔效应测量仪和紫外-可见分光光度计研究了薄膜的结构、形貌、电学及光学等性能与退火温度之间的关系.结果表明:退火前后薄膜均具有ZnO(002)择优取向,随着退火温度的升高,薄膜的晶化程度、晶粒粒径及粗糙度增加,薄膜电阻率先降低后升高,光学透过率和禁带宽度先升高后降低.150℃下真空退火的ZnO/Cu/ZnO薄膜的性能最佳,最高可见光透光率为90.5％,电阻率为1.28×10-4Ω·cm,载流子浓度为4.10×1021 cm-3.
室溫下利用磁控濺射製備瞭ZnO/Cu/ZnO透明導電薄膜,採用X射線衍射(XRD)、原子力顯微鏡(AFM)、掃描電子顯微鏡(SEM)、霍爾效應測量儀和紫外-可見分光光度計研究瞭薄膜的結構、形貌、電學及光學等性能與退火溫度之間的關繫.結果錶明:退火前後薄膜均具有ZnO(002)擇優取嚮,隨著退火溫度的升高,薄膜的晶化程度、晶粒粒徑及粗糙度增加,薄膜電阻率先降低後升高,光學透過率和禁帶寬度先升高後降低.150℃下真空退火的ZnO/Cu/ZnO薄膜的性能最佳,最高可見光透光率為90.5％,電阻率為1.28×10-4Ω·cm,載流子濃度為4.10×1021 cm-3.
실온하이용자공천사제비료ZnO/Cu/ZnO투명도전박막,채용X사선연사(XRD)、원자력현미경(AFM)、소묘전자현미경(SEM)、곽이효응측량의화자외-가견분광광도계연구료박막적결구、형모、전학급광학등성능여퇴화온도지간적관계.결과표명:퇴화전후박막균구유ZnO(002)택우취향,수착퇴화온도적승고,박막적정화정도、정립립경급조조도증가,박막전조솔선강저후승고,광학투과솔화금대관도선승고후강저.150℃하진공퇴화적ZnO/Cu/ZnO박막적성능최가,최고가견광투광솔위90.5％,전조솔위1.28×10-4Ω·cm,재류자농도위4.10×1021 cm-3.
