光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2015年
1期
149-156
,共8页
于明岩%施云波%赵士瑞%郭晓龙%徐昕伟%景玉鹏%陈宝钦
于明巖%施雲波%趙士瑞%郭曉龍%徐昕偉%景玉鵬%陳寶欽
우명암%시운파%조사서%곽효룡%서흔위%경옥붕%진보흠
电子束光刻%光刻胶图形%坍塌%黏连%高宽比%微波加热
電子束光刻%光刻膠圖形%坍塌%黏連%高寬比%微波加熱
전자속광각%광각효도형%담탑%점련%고관비%미파가열
electron beam lithography%photoresist%collapse%adhesion%high aspect ratio%micro wave heating
针对显影工艺中水的表面张力导致的高高宽比抗蚀剂图形的坍塌及黏连,提出了一种基于微波加热的干燥技术来有效改善纳米抗蚀剂图形的干燥效果.该方法利用微波穿透光刻胶结构直接加热光刻胶图形间隙中残存的去离子水,水分子吸收微波的光子能量迅速蒸发,从而有效地抑制光刻胶图形的坍塌与黏连现象.利用提出的基于微波加热的干燥方法,成功获取了高260 nm、宽16 nm的光刻胶线条组和直径为20 nm的光刻胶柱形阵列,其中高高宽比线条组和由15 625根柱子组成的柱形阵列结构没有出现坍塌及黏连情况,验证了在微波产生的交变电场作用下,可以减小水分子团簇,降低水的表面张力.
針對顯影工藝中水的錶麵張力導緻的高高寬比抗蝕劑圖形的坍塌及黏連,提齣瞭一種基于微波加熱的榦燥技術來有效改善納米抗蝕劑圖形的榦燥效果.該方法利用微波穿透光刻膠結構直接加熱光刻膠圖形間隙中殘存的去離子水,水分子吸收微波的光子能量迅速蒸髮,從而有效地抑製光刻膠圖形的坍塌與黏連現象.利用提齣的基于微波加熱的榦燥方法,成功穫取瞭高260 nm、寬16 nm的光刻膠線條組和直徑為20 nm的光刻膠柱形陣列,其中高高寬比線條組和由15 625根柱子組成的柱形陣列結構沒有齣現坍塌及黏連情況,驗證瞭在微波產生的交變電場作用下,可以減小水分子糰簇,降低水的錶麵張力.
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