哈尔滨理工大学学报
哈爾濱理工大學學報
합이빈리공대학학보
JOURNAL OF HARBIN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
2015年
1期
16-19
,共4页
磁控溅射%Ni/SiO2玻璃光衰减片%溅射时间
磁控濺射%Ni/SiO2玻璃光衰減片%濺射時間
자공천사%Ni/SiO2파리광쇠감편%천사시간
magnetron sputtering%Ni/SiO2 optical attenuation slices%sputtering time
为了提高光衰减片整体的光衰减效果,采用真空磁控溅射法,利用真空磁控溅射仪制备纳米级厚度的Ni/SiO2玻璃光衰减片.利用X-射线衍射(XRD)、原子能谱、扫描电镜和722分光光度计等表征手段,研究溅射时间(5、10、15、20、25 min)对透光率、微观结构的影响.实验结果表明:当溅射工作压力为0.4Pa,溅射时间为25 min时,金属Ni在SiO2玻璃基片上形成(111)和(200)晶面取向的镀Ni薄膜;SiO2玻璃基片上沉积的薄膜平整,颗粒分布均匀、排列紧密;试样的透光率达到0.41,采用磁控溅射法制备金属Ni/SiO2玻璃复合薄膜式光衰减片满足光纤通信需求.
為瞭提高光衰減片整體的光衰減效果,採用真空磁控濺射法,利用真空磁控濺射儀製備納米級厚度的Ni/SiO2玻璃光衰減片.利用X-射線衍射(XRD)、原子能譜、掃描電鏡和722分光光度計等錶徵手段,研究濺射時間(5、10、15、20、25 min)對透光率、微觀結構的影響.實驗結果錶明:噹濺射工作壓力為0.4Pa,濺射時間為25 min時,金屬Ni在SiO2玻璃基片上形成(111)和(200)晶麵取嚮的鍍Ni薄膜;SiO2玻璃基片上沉積的薄膜平整,顆粒分佈均勻、排列緊密;試樣的透光率達到0.41,採用磁控濺射法製備金屬Ni/SiO2玻璃複閤薄膜式光衰減片滿足光纖通信需求.
위료제고광쇠감편정체적광쇠감효과,채용진공자공천사법,이용진공자공천사의제비납미급후도적Ni/SiO2파리광쇠감편.이용X-사선연사(XRD)、원자능보、소묘전경화722분광광도계등표정수단,연구천사시간(5、10、15、20、25 min)대투광솔、미관결구적영향.실험결과표명:당천사공작압력위0.4Pa,천사시간위25 min시,금속Ni재SiO2파리기편상형성(111)화(200)정면취향적도Ni박막;SiO2파리기편상침적적박막평정,과립분포균균、배렬긴밀;시양적투광솔체도0.41,채용자공천사법제비금속Ni/SiO2파리복합박막식광쇠감편만족광섬통신수구.
