电子制作
電子製作
전자제작
ELECTRONICS DIY
2015年
9期
103-103,104
,共2页
真空镀膜%物理气相沉积%蒸发镀膜%溅射镀膜%离子镀膜
真空鍍膜%物理氣相沉積%蒸髮鍍膜%濺射鍍膜%離子鍍膜
진공도막%물리기상침적%증발도막%천사도막%리자도막
真空镀膜技术是气相物理沉积方法,是指在真空条件下,将镀膜材料沉积在基体表面形成固体薄膜。本文分析了近年来已公开的真空镀膜的发明专利申请,对上述专利申请进行了技术分类,并对专利申请进行了技术分类,介绍了近年来真空镀膜行业内,为了满足用户对涂层和薄膜高性能化、功能化要求,应运而生的真空镀膜系统结构和真空镀膜方法及其控制原理、应用及优点。
真空鍍膜技術是氣相物理沉積方法,是指在真空條件下,將鍍膜材料沉積在基體錶麵形成固體薄膜。本文分析瞭近年來已公開的真空鍍膜的髮明專利申請,對上述專利申請進行瞭技術分類,併對專利申請進行瞭技術分類,介紹瞭近年來真空鍍膜行業內,為瞭滿足用戶對塗層和薄膜高性能化、功能化要求,應運而生的真空鍍膜繫統結構和真空鍍膜方法及其控製原理、應用及優點。
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