化工时刊
化工時刊
화공시간
CHEMICAL INDUSTRY TIMES
2015年
1期
1-3
,共3页
聚酰亚胺%Ar离子刻蚀%X射线光电子能谱%表面分析
聚酰亞胺%Ar離子刻蝕%X射線光電子能譜%錶麵分析
취선아알%Ar리자각식%X사선광전자능보%표면분석
本文用3.0keVAr离子刻蚀聚酰亚胺薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)对薄膜表面元素组成、化学环境进行了分析,考察了不同刻蚀深度的薄膜表面的化学结构变化.
本文用3.0keVAr離子刻蝕聚酰亞胺薄膜,利用X射線光電子能譜(XPS)對薄膜錶麵元素組成、化學環境進行瞭分析,攷察瞭不同刻蝕深度的薄膜錶麵的化學結構變化.
본문용3.0keVAr리자각식취선아알박막,이용X사선광전자능보(XPS)대박막표면원소조성、화학배경진행료분석,고찰료불동각식심도적박막표면적화학결구변화.
