电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2015年
4期
42-46
,共5页
朱艳兵%隋然%王杰鹏%张爱国%马强%梅林
硃豔兵%隋然%王傑鵬%張愛國%馬彊%梅林
주염병%수연%왕걸붕%장애국%마강%매림
Ni-Sn合金%碱性水电解%析氢过电位%电沉积
Ni-Sn閤金%堿性水電解%析氫過電位%電沉積
Ni-Sn합금%감성수전해%석경과전위%전침적
Ni-Sn alloy%alkaline water electrolysis%hydrogen evolution overpotential%electrodeposition
利用循环伏安曲线研究了Ni2、Sn2络合离子的电沉积过程,在镍网基体上采用恒电位法电沉积制备了Ni-Sn合金.室温条件下,在30% KOH溶液中测试纯镍、雷尼-Ni和Ni-Sn合金电极的阴极极化曲线,比较三种电极的催化析氢性能.结果表明,Ni-Sn合金可以提高镍的催化析氢性能.在室温25℃,阴极极化电流密度20 A/dm2和30 A/dm2时,Ni-Sn合金电极的析氢过电位分别为137 mV和161 mV,低于雷尼-Ni电极的299 mV和341 mV.
利用循環伏安麯線研究瞭Ni2、Sn2絡閤離子的電沉積過程,在鎳網基體上採用恆電位法電沉積製備瞭Ni-Sn閤金.室溫條件下,在30% KOH溶液中測試純鎳、雷尼-Ni和Ni-Sn閤金電極的陰極極化麯線,比較三種電極的催化析氫性能.結果錶明,Ni-Sn閤金可以提高鎳的催化析氫性能.在室溫25℃,陰極極化電流密度20 A/dm2和30 A/dm2時,Ni-Sn閤金電極的析氫過電位分彆為137 mV和161 mV,低于雷尼-Ni電極的299 mV和341 mV.
이용순배복안곡선연구료Ni2、Sn2락합리자적전침적과정,재얼망기체상채용항전위법전침적제비료Ni-Sn합금.실온조건하,재30% KOH용액중측시순얼、뢰니-Ni화Ni-Sn합금전겁적음겁겁화곡선,비교삼충전겁적최화석경성능.결과표명,Ni-Sn합금가이제고얼적최화석경성능.재실온25℃,음겁겁화전류밀도20 A/dm2화30 A/dm2시,Ni-Sn합금전겁적석경과전위분별위137 mV화161 mV,저우뢰니-Ni전겁적299 mV화341 mV.