电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2015年
5期
6-8,18
,共4页
AlZn4.5Mg铝合金%类石墨镀层%耐蚀性%自腐蚀电位%磁控溅射
AlZn4.5Mg鋁閤金%類石墨鍍層%耐蝕性%自腐蝕電位%磁控濺射
AlZn4.5Mg려합금%류석묵도층%내식성%자부식전위%자공천사
AlZn4.5Mg alloy%GLC%corrosion resistance%self-corrosion potential%magnetron sputtering
对铝合金表面非平衡磁控溅射沉积类石墨镀层,采用极化曲线测试和质量损失方法,分析了镀层的耐蚀性;利用扫描电子显微镜对镀层腐蚀前后的微观形貌进行了观察.结果表明,铝合金表面磁控溅射类石墨镀层由铬打底层和碳工作层组成.镀层组织细小,均匀致密,类石墨镀层可以提高铝合金的耐蚀性.随基体负偏压增大,铝合金试样的耐蚀性增加,当基体为-120V偏压时,铝合金基体的自腐蚀电位由-0.452V提高到-0.372V,腐蚀电流由10.62 mA减小到3.67 mA.在NaCl溶液中进行浸泡试验后,类石墨镀层仅发生了部分点蚀,可很好地保护铝合金基体.
對鋁閤金錶麵非平衡磁控濺射沉積類石墨鍍層,採用極化麯線測試和質量損失方法,分析瞭鍍層的耐蝕性;利用掃描電子顯微鏡對鍍層腐蝕前後的微觀形貌進行瞭觀察.結果錶明,鋁閤金錶麵磁控濺射類石墨鍍層由鉻打底層和碳工作層組成.鍍層組織細小,均勻緻密,類石墨鍍層可以提高鋁閤金的耐蝕性.隨基體負偏壓增大,鋁閤金試樣的耐蝕性增加,噹基體為-120V偏壓時,鋁閤金基體的自腐蝕電位由-0.452V提高到-0.372V,腐蝕電流由10.62 mA減小到3.67 mA.在NaCl溶液中進行浸泡試驗後,類石墨鍍層僅髮生瞭部分點蝕,可很好地保護鋁閤金基體.
대려합금표면비평형자공천사침적류석묵도층,채용겁화곡선측시화질량손실방법,분석료도층적내식성;이용소묘전자현미경대도층부식전후적미관형모진행료관찰.결과표명,려합금표면자공천사류석묵도층유락타저층화탄공작층조성.도층조직세소,균균치밀,류석묵도층가이제고려합금적내식성.수기체부편압증대,려합금시양적내식성증가,당기체위-120V편압시,려합금기체적자부식전위유-0.452V제고도-0.372V,부식전류유10.62 mA감소도3.67 mA.재NaCl용액중진행침포시험후,류석묵도층부발생료부분점식,가흔호지보호려합금기체.
