强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2015年
5期
103-107
,共5页
惯性约束聚变%强激光系统%原子层沉积%激光损伤阈值%HfO2薄膜
慣性約束聚變%彊激光繫統%原子層沉積%激光損傷閾值%HfO2薄膜
관성약속취변%강격광계통%원자층침적%격광손상역치%HfO2박막
inertial confinement fusion%high power laser system%atomic layer deposition%laser induced damage threshold%HfO2 thin film
以目前激光惯性约束聚变中应用最广泛的高折射率材料二氧化铪(HfO2)为研究对象,在熔石英基底上分别采用TEMAH和HfCl4前驱体制备了HfO2薄膜,沉积温度分别为100,200和300℃.采用椭偏仪和激光量热计对薄膜的光学性能进行了测量分析,采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的微结构进行了测量.最后在小口径激光阈值测量平台上按照1-on-1测量模式对薄膜的损伤阈值进行了测试,并采用扫描电子显微镜(SEM)对损伤形貌进行了分析.研究表明,用同一种前驱体源时,随着沉积温度升高,薄膜折射率增加,吸收增多,损伤阈值降低.在相同温度下,采用有机源制备的薄膜更容易在薄膜内部形成有机残留,导致薄膜吸收增加,损伤阈值降低.采用HfCl4作为前驱体源在100℃制备氧化铪薄膜时,损伤阈值能够达到31.8 J/cm2(1064 nm,3 ns).
以目前激光慣性約束聚變中應用最廣汎的高摺射率材料二氧化鉿(HfO2)為研究對象,在鎔石英基底上分彆採用TEMAH和HfCl4前驅體製備瞭HfO2薄膜,沉積溫度分彆為100,200和300℃.採用橢偏儀和激光量熱計對薄膜的光學性能進行瞭測量分析,採用X射線衍射儀(XRD)對薄膜的微結構進行瞭測量.最後在小口徑激光閾值測量平檯上按照1-on-1測量模式對薄膜的損傷閾值進行瞭測試,併採用掃描電子顯微鏡(SEM)對損傷形貌進行瞭分析.研究錶明,用同一種前驅體源時,隨著沉積溫度升高,薄膜摺射率增加,吸收增多,損傷閾值降低.在相同溫度下,採用有機源製備的薄膜更容易在薄膜內部形成有機殘留,導緻薄膜吸收增加,損傷閾值降低.採用HfCl4作為前驅體源在100℃製備氧化鉿薄膜時,損傷閾值能夠達到31.8 J/cm2(1064 nm,3 ns).
이목전격광관성약속취변중응용최엄범적고절사솔재료이양화협(HfO2)위연구대상,재용석영기저상분별채용TEMAH화HfCl4전구체제비료HfO2박막,침적온도분별위100,200화300℃.채용타편의화격광량열계대박막적광학성능진행료측량분석,채용X사선연사의(XRD)대박막적미결구진행료측량.최후재소구경격광역치측량평태상안조1-on-1측량모식대박막적손상역치진행료측시,병채용소묘전자현미경(SEM)대손상형모진행료분석.연구표명,용동일충전구체원시,수착침적온도승고,박막절사솔증가,흡수증다,손상역치강저.재상동온도하,채용유궤원제비적박막경용역재박막내부형성유궤잔류,도치박막흡수증가,손상역치강저.채용HfCl4작위전구체원재100℃제비양화협박막시,손상역치능구체도31.8 J/cm2(1064 nm,3 ns).
