红外
紅外
홍외
INFRARED
2015年
5期
8-11,20
,共5页
敖孟寒%朱丽慧%孙士文%虞慧娴
敖孟寒%硃麗慧%孫士文%虞慧嫻
오맹한%주려혜%손사문%우혜한
化学机械抛光%CZT%粗糙度
化學機械拋光%CZT%粗糙度
화학궤계포광%CZT%조조도
化学机械抛光工艺是碲锌镉(Cadmium Zinc Telluride,CZT)晶体表面处理的关键技术之一.其中,化学机械抛光液是影响晶片表面质量的重要因素.目前用于CZT晶片的抛光液主要是依靠进口的碱性抛光液,这严重制约了我国CZT晶体研究的发展.采用硅溶胶和次氯酸钠(NaClO)溶液作为主要原料,制备了碱性化学机械抛光液.然后采用该抛光液对CZT晶片表面进行了化学机械抛光,并对抛光表面进行了表征.实验结果表明,抛光后晶片表面的粗糙度小于2 nm,因此采用硅溶胶-次氯酸钠碱性抛光液可制备出高质量的CZT抛光表面.
化學機械拋光工藝是碲鋅鎘(Cadmium Zinc Telluride,CZT)晶體錶麵處理的關鍵技術之一.其中,化學機械拋光液是影響晶片錶麵質量的重要因素.目前用于CZT晶片的拋光液主要是依靠進口的堿性拋光液,這嚴重製約瞭我國CZT晶體研究的髮展.採用硅溶膠和次氯痠鈉(NaClO)溶液作為主要原料,製備瞭堿性化學機械拋光液.然後採用該拋光液對CZT晶片錶麵進行瞭化學機械拋光,併對拋光錶麵進行瞭錶徵.實驗結果錶明,拋光後晶片錶麵的粗糙度小于2 nm,因此採用硅溶膠-次氯痠鈉堿性拋光液可製備齣高質量的CZT拋光錶麵.
화학궤계포광공예시제자력(Cadmium Zinc Telluride,CZT)정체표면처리적관건기술지일.기중,화학궤계포광액시영향정편표면질량적중요인소.목전용우CZT정편적포광액주요시의고진구적감성포광액,저엄중제약료아국CZT정체연구적발전.채용규용효화차록산납(NaClO)용액작위주요원료,제비료감성화학궤계포광액.연후채용해포광액대CZT정편표면진행료화학궤계포광,병대포광표면진행료표정.실험결과표명,포광후정편표면적조조도소우2 nm,인차채용규용효-차록산납감성포광액가제비출고질량적CZT포광표면.
