强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2015年
6期
118-122
,共5页
徐德超%王海霞%张众%朱杰%连玉红%王占山
徐德超%王海霞%張衆%硃傑%連玉紅%王佔山
서덕초%왕해하%장음%주걸%련옥홍%왕점산
软X射线%Mo/B4C%直流磁控溅射%应力%热稳定性
軟X射線%Mo/B4C%直流磁控濺射%應力%熱穩定性
연X사선%Mo/B4C%직류자공천사%응력%열은정성
soft X-rays%Mo/B4C%DC magnetron sputtering%stress%thermal stability
为了实现7 nm波段Mo/B4C多层膜反射镜元件的制备,研究了不同退火方式对Mo/B4C多层膜应力和热稳定性的影响.首先,采用直流磁控溅射方法分别基于石英和硅基板制作Mo/B4C多层膜样品,设计周期为3.58 nm、周期数为60,Mo膜层厚度与周期的比值为0.4.其次,采用不同的退火方式对所制作的样品进行退火实验,最高退火温度500℃.最后,分别采用X射线掠入射反射、X射线散射和光学干涉仪的方法对退火前后的Mo/B4C多层膜的周期、界面粗糙度和应力进行测试.测试结果表明采用真空退火方式能够有效降低Mo/B4C多层膜的应力,且退火前后Mo/B4C多层膜的周期和界面粗糙度无明显变化,证明Mo/B4C多层膜在500℃以内具有很好的热稳定性.
為瞭實現7 nm波段Mo/B4C多層膜反射鏡元件的製備,研究瞭不同退火方式對Mo/B4C多層膜應力和熱穩定性的影響.首先,採用直流磁控濺射方法分彆基于石英和硅基闆製作Mo/B4C多層膜樣品,設計週期為3.58 nm、週期數為60,Mo膜層厚度與週期的比值為0.4.其次,採用不同的退火方式對所製作的樣品進行退火實驗,最高退火溫度500℃.最後,分彆採用X射線掠入射反射、X射線散射和光學榦涉儀的方法對退火前後的Mo/B4C多層膜的週期、界麵粗糙度和應力進行測試.測試結果錶明採用真空退火方式能夠有效降低Mo/B4C多層膜的應力,且退火前後Mo/B4C多層膜的週期和界麵粗糙度無明顯變化,證明Mo/B4C多層膜在500℃以內具有很好的熱穩定性.
위료실현7 nm파단Mo/B4C다층막반사경원건적제비,연구료불동퇴화방식대Mo/B4C다층막응력화열은정성적영향.수선,채용직류자공천사방법분별기우석영화규기판제작Mo/B4C다층막양품,설계주기위3.58 nm、주기수위60,Mo막층후도여주기적비치위0.4.기차,채용불동적퇴화방식대소제작적양품진행퇴화실험,최고퇴화온도500℃.최후,분별채용X사선략입사반사、X사선산사화광학간섭의적방법대퇴화전후적Mo/B4C다층막적주기、계면조조도화응력진행측시.측시결과표명채용진공퇴화방식능구유효강저Mo/B4C다층막적응력,차퇴화전후Mo/B4C다층막적주기화계면조조도무명현변화,증명Mo/B4C다층막재500℃이내구유흔호적열은정성.
