无掩膜光刻图形的数据提取技术
무엄막광각도형적수거제취기술
Graphics import of maskless lithography techniques
  • 万方数据
    信息技术 신식기술
    INFORMATION TECHNOLOGY
    2015年 5期 212-214 ,共3页

    刘丹玥%侯文玫%许琦欣

    류단모%후문매%허기흔

    无掩膜光刻%MATLAB%DXF文件 無掩膜光刻%MATLAB%DXF文件
    무엄막광각%MATLAB%DXF문건
    maskless lithography%MATLAB%DXF file
    由于掩膜的成本在整个光刻成本中所占的份额不断攀升,所以降低掩膜的成本,甚至发展到不需要昂贵的掩膜的无掩膜光刻技术已经成为了关键.掩膜的图形格式如DXF和GDSII无法直接用于无掩膜光刻机,需要对掩膜图形数据进行提取.了解DXF格式的掩膜图形特点,编写算法对掩膜图形信息进行提取和解析,并通过MATLAB仿真验证读入图形的正确性.
    유우엄막적성본재정개광각성본중소점적빈액불단반승,소이강저엄막적성본,심지발전도불수요앙귀적엄막적무엄막광각기술이경성위료관건.엄막적도형격식여DXF화GDSII무법직접용우무엄막광각궤,수요대엄막도형수거진행제취.료해DXF격식적엄막도형특점,편사산법대엄막도형신식진행제취화해석,병통과MATLAB방진험증독입도형적정학성.
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