通信电源技术
通信電源技術
통신전원기술
TELECOM POWER TECHNOLOGIES
2015年
3期
60-61
,共2页
氮化硅减反射膜%工艺参数%均匀性
氮化硅減反射膜%工藝參數%均勻性
담화규감반사막%공예삼수%균균성
silicon nitride antireflection film%process parameters%uniformity
根据多晶硅 PECVD 的制程原理，分别验证温度、流量、功率等工艺参数对镀膜质量的影响，寻求最佳参数，从而达到优化工艺，改善镀膜颜色质量，保证颜色均匀性的目的。
根據多晶硅 PECVD 的製程原理，分彆驗證溫度、流量、功率等工藝參數對鍍膜質量的影響，尋求最佳參數，從而達到優化工藝，改善鍍膜顏色質量，保證顏色均勻性的目的。
근거다정규 PECVD 적제정원리，분별험증온도、류량、공솔등공예삼수대도막질량적영향，심구최가삼수，종이체도우화공예，개선도막안색질량，보증안색균균성적목적。
According to principle of multi-crystalline silicon PECVD process,impacts of temperature,flow,power and other process parameters on coating quality are verified respectively.And optimized parameters are figured out to optimize process,improve color quality of coatings and ensure color uniformity.
