高技术通讯
高技術通訊
고기술통신
HIGH TECHNOLOGY LETTERS
2015年
3期
300-306
,共7页
宋慧瑾%鄢强%李玫%董志红%冯威%朱晓东%孙艳
宋慧瑾%鄢彊%李玫%董誌紅%馮威%硃曉東%孫豔
송혜근%언강%리매%동지홍%풍위%주효동%손염
氮化铬(CrNx)%涂层%工艺参数%直流磁控溅射
氮化鉻(CrNx)%塗層%工藝參數%直流磁控濺射
담화락(CrNx)%도층%공예삼수%직류자공천사
CrNx%coating%technological parameters%DC magnetron sputtering
采用直流磁控溅射技术制备了氮化铬(CrNx)涂层,研究了制备CrNx涂层的工艺参数对所制备的CrNx涂层的膜基结合力及力学性能的影响.研究结果表明:工艺参数对CrNx涂层性能的影响不成各向同性关系;在较低的N2含量、较高的脉冲偏压、约100V的直流偏压、较高的真空度、较高的沉积温度和较高的靶功率下制备的CrNx涂层的硬度较高,而在较低的N2含量、恰当的脉冲偏压和占空比配对、较高的直流偏压、较高的真空度、较高的沉积温度和较高的靶功率下制备的CrNx涂层的表面形貌较好.
採用直流磁控濺射技術製備瞭氮化鉻(CrNx)塗層,研究瞭製備CrNx塗層的工藝參數對所製備的CrNx塗層的膜基結閤力及力學性能的影響.研究結果錶明:工藝參數對CrNx塗層性能的影響不成各嚮同性關繫;在較低的N2含量、較高的脈遲偏壓、約100V的直流偏壓、較高的真空度、較高的沉積溫度和較高的靶功率下製備的CrNx塗層的硬度較高,而在較低的N2含量、恰噹的脈遲偏壓和佔空比配對、較高的直流偏壓、較高的真空度、較高的沉積溫度和較高的靶功率下製備的CrNx塗層的錶麵形貌較好.
채용직류자공천사기술제비료담화락(CrNx)도층,연구료제비CrNx도층적공예삼수대소제비적CrNx도층적막기결합력급역학성능적영향.연구결과표명:공예삼수대CrNx도층성능적영향불성각향동성관계;재교저적N2함량、교고적맥충편압、약100V적직류편압、교고적진공도、교고적침적온도화교고적파공솔하제비적CrNx도층적경도교고,이재교저적N2함량、흡당적맥충편압화점공비배대、교고적직류편압、교고적진공도、교고적침적온도화교고적파공솔하제비적CrNx도층적표면형모교호.
