沈阳理工大学学报
瀋暘理工大學學報
침양리공대학학보
JOURNAL OF SHENYANG INTITUTE OF TECHNOLOGY
2015年
4期
1-4,14
,共5页
吕树国%李玉海%张罡%金光
呂樹國%李玉海%張罡%金光
려수국%리옥해%장강%금광
TiAlN膜层%电弧离子镀%回火%显微硬度
TiAlN膜層%電弧離子鍍%迴火%顯微硬度
TiAlN막층%전호리자도%회화%현미경도
TiAlN coatings%arc ion plating%tempered%micro hardness
采用SX-4-13箱式回火电阻炉,在氮气保护条件下对电弧离子镀技术沉积的TiAlN膜层进行回火热处理.研究回火温度对TiAlN膜层表面形貌、粗糙度、显微硬度、耐磨性的影响.结果表明:回火温度为300℃时膜层表面形貌连续、光滑、粗糙度最低,粗糙度值为0.30.力学试验结果表明:回火温度为300℃时膜层的表面显微硬度最高,由未回火热处理前的1800HV0.01升高到2000HV0.01,此温度下膜层的耐磨性最好,回火温度过高或者过低都会降低膜层的表面质量.
採用SX-4-13箱式迴火電阻爐,在氮氣保護條件下對電弧離子鍍技術沉積的TiAlN膜層進行迴火熱處理.研究迴火溫度對TiAlN膜層錶麵形貌、粗糙度、顯微硬度、耐磨性的影響.結果錶明:迴火溫度為300℃時膜層錶麵形貌連續、光滑、粗糙度最低,粗糙度值為0.30.力學試驗結果錶明:迴火溫度為300℃時膜層的錶麵顯微硬度最高,由未迴火熱處理前的1800HV0.01升高到2000HV0.01,此溫度下膜層的耐磨性最好,迴火溫度過高或者過低都會降低膜層的錶麵質量.
채용SX-4-13상식회화전조로,재담기보호조건하대전호리자도기술침적적TiAlN막층진행회화열처리.연구회화온도대TiAlN막층표면형모、조조도、현미경도、내마성적영향.결과표명:회화온도위300℃시막층표면형모련속、광활、조조도최저,조조도치위0.30.역학시험결과표명:회화온도위300℃시막층적표면현미경도최고,유미회화열처리전적1800HV0.01승고도2000HV0.01,차온도하막층적내마성최호,회화온도과고혹자과저도회강저막층적표면질량.
