制造技术与机床
製造技術與機床
제조기술여궤상
MANUFACTURING TECHNOLOGY & MACHINE TOOL
2015年
8期
47-50
,共4页
掩模移动曝光技术%接近式光刻机%对准系统%对准精度
掩模移動曝光技術%接近式光刻機%對準繫統%對準精度
엄모이동폭광기술%접근식광각궤%대준계통%대준정도
mask moving exposure technique%proximity aligner%alignment system%alignment accuracy
提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作.由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位.CCD图象对准系统由两支完全相同且相互独立的光路组成,各光路分别照明掩模和基片上的标记后,清晰地呈现在CCD象面上,采集卡将CCD采集到的数据送入计算机,进行算法处理,给出X、Y、θ的偏差,从而调节掩模和基片的相对位置.该方案可以获得优于1μm的对准精度,工作更为方便、易升级为自动对准.
提齣瞭一種用于接近式光刻機的掩模移動曝光CCD圖象對準繫統,可以實現連續浮彫微光學元件的製作.由一次預對準和一次精對準實現基片的安裝定位,先後通過兩次預對準和兩次精對準實現掩模的兩次安裝定位.CCD圖象對準繫統由兩支完全相同且相互獨立的光路組成,各光路分彆照明掩模和基片上的標記後,清晰地呈現在CCD象麵上,採集卡將CCD採集到的數據送入計算機,進行算法處理,給齣X、Y、θ的偏差,從而調節掩模和基片的相對位置.該方案可以穫得優于1μm的對準精度,工作更為方便、易升級為自動對準.
제출료일충용우접근식광각궤적엄모이동폭광CCD도상대준계통,가이실현련속부조미광학원건적제작.유일차예대준화일차정대준실현기편적안장정위,선후통과량차예대준화량차정대준실현엄모적량차안장정위.CCD도상대준계통유량지완전상동차상호독립적광로조성,각광로분별조명엄모화기편상적표기후,청석지정현재CCD상면상,채집잡장CCD채집도적수거송입계산궤,진행산법처리,급출X、Y、θ적편차,종이조절엄모화기편적상대위치.해방안가이획득우우1μm적대준정도,공작경위방편、역승급위자동대준.
