中山大学学报论丛
中山大學學報論叢
중산대학학보론총
Supplement to the Journal of Sun Yatsen University
2007年
8期
282~285
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磁头 研抛工艺参数 表面粗糙度
磁頭 研拋工藝參數 錶麵粗糙度
자두 연포공예삼수 표면조조도
计算机硬盘其存储容量的发展要求不断降低磁头在硬盘表面的飞行高度,从而要求硬盘磁头的表面粗糙度越来越小。分析一种目前普遍应用于工业的技术：浮法抛光法,研究其研抛工作时工艺参数对磁头表面的影响情况,寻求一个何时的研抛参数和影响因素,以求达到快速加工,降低成本。
計算機硬盤其存儲容量的髮展要求不斷降低磁頭在硬盤錶麵的飛行高度,從而要求硬盤磁頭的錶麵粗糙度越來越小。分析一種目前普遍應用于工業的技術：浮法拋光法,研究其研拋工作時工藝參數對磁頭錶麵的影響情況,尋求一箇何時的研拋參數和影響因素,以求達到快速加工,降低成本。
계산궤경반기존저용량적발전요구불단강저자두재경반표면적비행고도,종이요구경반자두적표면조조도월래월소。분석일충목전보편응용우공업적기술：부법포광법,연구기연포공작시공예삼수대자두표면적영향정황,심구일개하시적연포삼수화영향인소,이구체도쾌속가공,강저성본。
