压电与声光
壓電與聲光
압전여성광
Piezoelectrics & Acoustooptics
2015年
4期
659-661,666
,共4页
非晶碳%场发射%Al2O3陶瓷
非晶碳%場髮射%Al2O3陶瓷
비정탄%장발사%Al2O3도자
amorphous carbon%field emission%Al2O3 cerimic
在Al2O3陶瓷衬底上用直流磁控溅射技术沉积过渡层Mo,再利用微波等离子体化学沉积系统在Mo过渡层上制备非晶碳薄膜,利用X线衍射(XRD)、拉曼(Raman)和电镜扫描(SEM)技术分析了薄膜的结构和表面形貌,测试了所制备样品的场发射及其发光特性,研究了薄膜的场发射特性.结果表明,所制备的薄膜为非晶碳和Mo2C的复合薄膜.所制备的薄膜具有较好的场发射特性,开启场强为0.74 V/μm,1.8 V/μm的场强下发射电流密度达到6 800 μA/cm2,且发光点分布均匀,利用迭代法计算了所制备薄膜的有效场发射面积和其功函数.
在Al2O3陶瓷襯底上用直流磁控濺射技術沉積過渡層Mo,再利用微波等離子體化學沉積繫統在Mo過渡層上製備非晶碳薄膜,利用X線衍射(XRD)、拉曼(Raman)和電鏡掃描(SEM)技術分析瞭薄膜的結構和錶麵形貌,測試瞭所製備樣品的場髮射及其髮光特性,研究瞭薄膜的場髮射特性.結果錶明,所製備的薄膜為非晶碳和Mo2C的複閤薄膜.所製備的薄膜具有較好的場髮射特性,開啟場彊為0.74 V/μm,1.8 V/μm的場彊下髮射電流密度達到6 800 μA/cm2,且髮光點分佈均勻,利用迭代法計算瞭所製備薄膜的有效場髮射麵積和其功函數.
재Al2O3도자츤저상용직류자공천사기술침적과도층Mo,재이용미파등리자체화학침적계통재Mo과도층상제비비정탄박막,이용X선연사(XRD)、랍만(Raman)화전경소묘(SEM)기술분석료박막적결구화표면형모,측시료소제비양품적장발사급기발광특성,연구료박막적장발사특성.결과표명,소제비적박막위비정탄화Mo2C적복합박막.소제비적박막구유교호적장발사특성,개계장강위0.74 V/μm,1.8 V/μm적장강하발사전류밀도체도6 800 μA/cm2,차발광점분포균균,이용질대법계산료소제비박막적유효장발사면적화기공함수.
