光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
Optics and Precision Engineering
2015年
8期
2117-2124
,共8页
姜岩秀%巴音贺希格%赵旭龙%杨硕%吴娜
薑巖秀%巴音賀希格%趙旭龍%楊碩%吳娜
강암수%파음하희격%조욱룡%양석%오나
自由电子激光器%平面变栅距光栅%全息曝光%刻线密度误差%分辨能力
自由電子激光器%平麵變柵距光柵%全息曝光%刻線密度誤差%分辨能力
자유전자격광기%평면변책거광책%전식폭광%각선밀도오차%분변능력
free electron laser%plane varied-line-space grating%holographic exposure%groove density error%resolution
针对极紫外波段自由电子激光器(大连相干光源,DCLS)对高分辨能力平面变栅距光栅的需求,基于光程差以及像差原理构建了极紫外平面变栅距全息光栅.采用改进的局部优化算法给出了平面变栅距光栅的记录参数,利用全息曝光技术在硅光栅基底上制作了中心刻线密度为600 gr/mm、占宽比为0.46、槽深为550 nm、有效刻划面积为30 mm×30 mm的极紫外平面变栅距全息光栅.采用Littrow衍射法测量了平面变栅距光栅的刻线密度,并基于像差理论分析了平面变栅距光栅的理论分辨能力.结果表明:制作的600 gr/mm平面变栅距光栅在有效面积内的刻线密度误差小于0.175 gr/mm,在极紫外波段(50～150 nm)的分辨能力大于12 000,满足自由电子激光器的设计要求.提出的设计及制作方法为制作高质量平面变栅距光栅提供了理论及技术保障.
針對極紫外波段自由電子激光器(大連相榦光源,DCLS)對高分辨能力平麵變柵距光柵的需求,基于光程差以及像差原理構建瞭極紫外平麵變柵距全息光柵.採用改進的跼部優化算法給齣瞭平麵變柵距光柵的記錄參數,利用全息曝光技術在硅光柵基底上製作瞭中心刻線密度為600 gr/mm、佔寬比為0.46、槽深為550 nm、有效刻劃麵積為30 mm×30 mm的極紫外平麵變柵距全息光柵.採用Littrow衍射法測量瞭平麵變柵距光柵的刻線密度,併基于像差理論分析瞭平麵變柵距光柵的理論分辨能力.結果錶明:製作的600 gr/mm平麵變柵距光柵在有效麵積內的刻線密度誤差小于0.175 gr/mm,在極紫外波段(50～150 nm)的分辨能力大于12 000,滿足自由電子激光器的設計要求.提齣的設計及製作方法為製作高質量平麵變柵距光柵提供瞭理論及技術保障.
침대겁자외파단자유전자격광기(대련상간광원,DCLS)대고분변능력평면변책거광책적수구,기우광정차이급상차원리구건료겁자외평면변책거전식광책.채용개진적국부우화산법급출료평면변책거광책적기록삼수,이용전식폭광기술재규광책기저상제작료중심각선밀도위600 gr/mm、점관비위0.46、조심위550 nm、유효각화면적위30 mm×30 mm적겁자외평면변책거전식광책.채용Littrow연사법측량료평면변책거광책적각선밀도,병기우상차이론분석료평면변책거광책적이론분변능력.결과표명:제작적600 gr/mm평면변책거광책재유효면적내적각선밀도오차소우0.175 gr/mm,재겁자외파단(50～150 nm)적분변능력대우12 000,만족자유전자격광기적설계요구.제출적설계급제작방법위제작고질량평면변책거광책제공료이론급기술보장.
