应用光学
應用光學
응용광학
Journal of Applied Optics
2015年
5期
795-798
,共4页
包强%刘卫国%蔡长龙%周顺%陈智利%惠迎雪%姬娇
包彊%劉衛國%蔡長龍%週順%陳智利%惠迎雪%姬嬌
포강%류위국%채장룡%주순%진지리%혜영설%희교
离子束刻蚀%离子束参数%刻蚀速率%表面粗糙度
離子束刻蝕%離子束參數%刻蝕速率%錶麵粗糙度
리자속각식%리자속삼수%각식속솔%표면조조도
ion beam etching%ion source parameters%etching rate%surface roughness
为了研究离子束刻蚀抛光过程中离子源工艺参数对刻蚀速率及表面粗糙度的影响,采用微波离子源为刻蚀离子源,以BCB胶为主要研究对象,研究了离子束能量、离子束电流、氩气流量、氧气流量对BCB胶刻蚀速率及表面粗糙度的影响,获得了离子源工艺参数与刻蚀速率及表面粗糙度演变的关系.研究结果表明,离子束能量在从400 eV增大到800 eV的过程中,刻蚀速率不断增大,从3.2 nm/min增大到16.6 nm/min;离子束流密度在从15 mA增大到35 mA的过程中,刻蚀速率不断增大,从1.1 nm/min增大到2.2 nm/min;工作气体中氧气流量从2 mL/min增大到10 mL/min的过程中,刻蚀速率会整体增大,在8 mL/min处略有下降.表面粗糙度变化不大,可以控制在1.8 nm以下.
為瞭研究離子束刻蝕拋光過程中離子源工藝參數對刻蝕速率及錶麵粗糙度的影響,採用微波離子源為刻蝕離子源,以BCB膠為主要研究對象,研究瞭離子束能量、離子束電流、氬氣流量、氧氣流量對BCB膠刻蝕速率及錶麵粗糙度的影響,穫得瞭離子源工藝參數與刻蝕速率及錶麵粗糙度縯變的關繫.研究結果錶明,離子束能量在從400 eV增大到800 eV的過程中,刻蝕速率不斷增大,從3.2 nm/min增大到16.6 nm/min;離子束流密度在從15 mA增大到35 mA的過程中,刻蝕速率不斷增大,從1.1 nm/min增大到2.2 nm/min;工作氣體中氧氣流量從2 mL/min增大到10 mL/min的過程中,刻蝕速率會整體增大,在8 mL/min處略有下降.錶麵粗糙度變化不大,可以控製在1.8 nm以下.
위료연구리자속각식포광과정중리자원공예삼수대각식속솔급표면조조도적영향,채용미파리자원위각식리자원,이BCB효위주요연구대상,연구료리자속능량、리자속전류、아기류량、양기류량대BCB효각식속솔급표면조조도적영향,획득료리자원공예삼수여각식속솔급표면조조도연변적관계.연구결과표명,리자속능량재종400 eV증대도800 eV적과정중,각식속솔불단증대,종3.2 nm/min증대도16.6 nm/min;리자속류밀도재종15 mA증대도35 mA적과정중,각식속솔불단증대,종1.1 nm/min증대도2.2 nm/min;공작기체중양기류량종2 mL/min증대도10 mL/min적과정중,각식속솔회정체증대,재8 mL/min처략유하강.표면조조도변화불대,가이공제재1.8 nm이하.
