含能材料
含能材料
함능재료
Chinese Journal of Energetic Materials
2015年
9期
848-857
,共10页
张安帮%曹耀峰%马宇%朱元强%张朝阳
張安幫%曹耀峰%馬宇%硃元彊%張朝暘
장안방%조요봉%마우%주원강%장조양
含能共晶%堆积系数%Hirshfeld面%指纹图
含能共晶%堆積繫數%Hirshfeld麵%指紋圖
함능공정%퇴적계수%Hirshfeld면%지문도
energetic cocrystal%packing coefficient%Hirshfeld surface%fingerprint plot
采用Hirshfeld面、指纹图的方法,从密度、堆积系数、分子间相互作用的相对贡献方面,研究了已报道的六硝基六氮杂异伍兹烷(CL-20)、环四甲撑四硝胺(HMX)、苯并三呋咱氮氧化物(BTF)及2,4,6-三硝基甲苯(TNT)基含能共晶的堆积结构.结果发现,绝大部分含能共晶的堆积系数处于两组分之间.不同含能共晶中的相同含能分子与周围分子间相互作用的方向和大小不同.CL-20共晶中O…H、O…O作用所占比例之和大于70％,说明它们是晶体稳定的主导作用.HMX共晶中O…H作用所占比例大于50％,说明弱氢键占主导地位.与CL-20共晶和HMX共晶相比,BTF和TNT共晶中,C…O和C…C作用占较高比例,说明π堆积作用明显.
採用Hirshfeld麵、指紋圖的方法,從密度、堆積繫數、分子間相互作用的相對貢獻方麵,研究瞭已報道的六硝基六氮雜異伍玆烷(CL-20)、環四甲撐四硝胺(HMX)、苯併三呋偺氮氧化物(BTF)及2,4,6-三硝基甲苯(TNT)基含能共晶的堆積結構.結果髮現,絕大部分含能共晶的堆積繫數處于兩組分之間.不同含能共晶中的相同含能分子與週圍分子間相互作用的方嚮和大小不同.CL-20共晶中O…H、O…O作用所佔比例之和大于70％,說明它們是晶體穩定的主導作用.HMX共晶中O…H作用所佔比例大于50％,說明弱氫鍵佔主導地位.與CL-20共晶和HMX共晶相比,BTF和TNT共晶中,C…O和C…C作用佔較高比例,說明π堆積作用明顯.
채용Hirshfeld면、지문도적방법,종밀도、퇴적계수、분자간상호작용적상대공헌방면,연구료이보도적륙초기륙담잡이오자완(CL-20)、배사갑탱사초알(HMX)、분병삼부찰담양화물(BTF)급2,4,6-삼초기갑분(TNT)기함능공정적퇴적결구.결과발현,절대부분함능공정적퇴적계수처우량조분지간.불동함능공정중적상동함능분자여주위분자간상호작용적방향화대소불동.CL-20공정중O…H、O…O작용소점비례지화대우70％,설명타문시정체은정적주도작용.HMX공정중O…H작용소점비례대우50％,설명약경건점주도지위.여CL-20공정화HMX공정상비,BTF화TNT공정중,C…O화C…C작용점교고비례,설명π퇴적작용명현.
