电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
Equipment for Electronic Products Manufacturing
2015年
7期
13-17
,共5页
数值模拟%单层热屏%加强型热屏%后继加热器
數值模擬%單層熱屏%加彊型熱屏%後繼加熱器
수치모의%단층열병%가강형열병%후계가열기
采用有限体积元法软件CrysVUn对直拉法生长直径210 mm的硅单晶热场进行了模拟.后继加热器提高了晶体生长界面中心高度,对熔体温度梯度基本没有影响;热屏能改善晶体生长界面形状,使界面更加平滑,降低界面中心高度,并能降低熔体纵向温度梯度,得到更好的温度分布.
採用有限體積元法軟件CrysVUn對直拉法生長直徑210 mm的硅單晶熱場進行瞭模擬.後繼加熱器提高瞭晶體生長界麵中心高度,對鎔體溫度梯度基本沒有影響;熱屏能改善晶體生長界麵形狀,使界麵更加平滑,降低界麵中心高度,併能降低鎔體縱嚮溫度梯度,得到更好的溫度分佈.
채용유한체적원법연건CrysVUn대직랍법생장직경210 mm적규단정열장진행료모의.후계가열기제고료정체생장계면중심고도,대용체온도제도기본몰유영향;열병능개선정체생장계면형상,사계면경가평활,강저계면중심고도,병능강저용체종향온도제도,득도경호적온도분포.