计算机与应用化学
計算機與應用化學
계산궤여응용화학
Computers and Applied Chemistry
2015年
7期
838-840
,共3页
耿宗科%刘立勋%高磊%左佳男%曾艳丽
耿宗科%劉立勛%高磊%左佳男%曾豔麗
경종과%류립훈%고뢰%좌가남%증염려
卤键%氢键%静电势%电子密度拓扑分析
滷鍵%氫鍵%靜電勢%電子密度拓撲分析
서건%경건%정전세%전자밀도탁복분석
halogen bond%hydrogen bond%electrostatic potential%topological analysis of electron density
采用HF方法和6-31G(d,p)基组,对C4H4N2…2ClF复合物中的卤键作用进行研究,并讨论随着卤离子的加入,形成X-…C4H4N2…2ClF (X-=F-,Cl-,Br)复合物之后,卤离子对该类卤键的加强作用.通过分析分子表面静电势,搭建复合物构型,优化得到了复合物的稳定构型并进行了频率分析.用电子密度拓扑分析方法研究复合物中卤键的性质,探讨了该类卤键的作用本质.研究结果表明:(1) C4H4N2可以通过氮原子外的负静电势区域与ClF分子中Cl原子外的正静电势区域结合形成2个N…Cl卤键,卤离子F-、Cl-和Br-与C4H4N2中的2个H原子可以形成氢键,这个氢键对N…Cl卤键有明显的加强作用,且按照Br、Cl-和F-的顺序,加强作用越来越明显.(2)电子密度拓扑分析表明,复合物C4H4N2…2ClF、Br-…C4H4N2…2ClF、Cl-…C4H4N2…2ClF、F-…C4H4N2…2ClF的N…Cl卤键强度依次增加;N…Cl卤键属于闭壳层相互作用.
採用HF方法和6-31G(d,p)基組,對C4H4N2…2ClF複閤物中的滷鍵作用進行研究,併討論隨著滷離子的加入,形成X-…C4H4N2…2ClF (X-=F-,Cl-,Br)複閤物之後,滷離子對該類滷鍵的加彊作用.通過分析分子錶麵靜電勢,搭建複閤物構型,優化得到瞭複閤物的穩定構型併進行瞭頻率分析.用電子密度拓撲分析方法研究複閤物中滷鍵的性質,探討瞭該類滷鍵的作用本質.研究結果錶明:(1) C4H4N2可以通過氮原子外的負靜電勢區域與ClF分子中Cl原子外的正靜電勢區域結閤形成2箇N…Cl滷鍵,滷離子F-、Cl-和Br-與C4H4N2中的2箇H原子可以形成氫鍵,這箇氫鍵對N…Cl滷鍵有明顯的加彊作用,且按照Br、Cl-和F-的順序,加彊作用越來越明顯.(2)電子密度拓撲分析錶明,複閤物C4H4N2…2ClF、Br-…C4H4N2…2ClF、Cl-…C4H4N2…2ClF、F-…C4H4N2…2ClF的N…Cl滷鍵彊度依次增加;N…Cl滷鍵屬于閉殼層相互作用.
채용HF방법화6-31G(d,p)기조,대C4H4N2…2ClF복합물중적서건작용진행연구,병토론수착서리자적가입,형성X-…C4H4N2…2ClF (X-=F-,Cl-,Br)복합물지후,서리자대해류서건적가강작용.통과분석분자표면정전세,탑건복합물구형,우화득도료복합물적은정구형병진행료빈솔분석.용전자밀도탁복분석방법연구복합물중서건적성질,탐토료해류서건적작용본질.연구결과표명:(1) C4H4N2가이통과담원자외적부정전세구역여ClF분자중Cl원자외적정정전세구역결합형성2개N…Cl서건,서리자F-、Cl-화Br-여C4H4N2중적2개H원자가이형성경건,저개경건대N…Cl서건유명현적가강작용,차안조Br、Cl-화F-적순서,가강작용월래월명현.(2)전자밀도탁복분석표명,복합물C4H4N2…2ClF、Br-…C4H4N2…2ClF、Cl-…C4H4N2…2ClF、F-…C4H4N2…2ClF적N…Cl서건강도의차증가;N…Cl서건속우폐각층상호작용.
