装备制造技术
裝備製造技術
장비제조기술
Equipment Manufacturing Technology
2015年
9期
167-169
,共3页
郭金明%田云飞%韦建峰%杨森%赵钰%王国栋
郭金明%田雲飛%韋建峰%楊森%趙鈺%王國棟
곽금명%전운비%위건봉%양삼%조옥%왕국동
高纯铜靶材%溅射%制备工艺
高純銅靶材%濺射%製備工藝
고순동파재%천사%제비공예
高纯铜靶材是电子行业中用量最大的金属靶材制品之一.溅射用铜靶的微观组织结构对溅射薄膜的质量具有重要影响.制备研究了高品质的高纯铜靶材的制备工艺,认为若获得细小均匀的微观组织,必须对高纯铜锭进行镦拔工艺处理.高纯铜铸锭在550℃具有较低的变形抗力,镦拔开坯后,铸态组织得到充分破碎,而且组织比较均匀.此外,铜靶的合理热处理温度在450℃～550℃之间,热处理时间为30 min～60 rmin.
高純銅靶材是電子行業中用量最大的金屬靶材製品之一.濺射用銅靶的微觀組織結構對濺射薄膜的質量具有重要影響.製備研究瞭高品質的高純銅靶材的製備工藝,認為若穫得細小均勻的微觀組織,必鬚對高純銅錠進行鐓拔工藝處理.高純銅鑄錠在550℃具有較低的變形抗力,鐓拔開坯後,鑄態組織得到充分破碎,而且組織比較均勻.此外,銅靶的閤理熱處理溫度在450℃～550℃之間,熱處理時間為30 min～60 rmin.
고순동파재시전자행업중용량최대적금속파재제품지일.천사용동파적미관조직결구대천사박막적질량구유중요영향.제비연구료고품질적고순동파재적제비공예,인위약획득세소균균적미관조직,필수대고순동정진행대발공예처리.고순동주정재550℃구유교저적변형항력,대발개배후,주태조직득도충분파쇄,이차조직비교균균.차외,동파적합리열처리온도재450℃～550℃지간,열처리시간위30 min～60 rmin.
