电声技术
電聲技術
전성기술
Audio Engineering
2015年
z1期
4-6,9
,共4页
光刻机%对准%专利
光刻機%對準%專利
광각궤%대준%전리
光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备,是集精密光学、机械、控制、材料等先进科学技术和工程技术于一体,各种尖端交叉融合的复杂大系统产物,它的研发过程及研发成果对集成电路产业和信息产业的发展具有极大地技术带动作用.其中掩膜—硅片对准是光刻机三大核心技术之一,对光刻机对准技术的专利申请情况作出了分析,介绍了光刻机对准技术的专利申请的分布特点.
光刻機是集成電路裝備中技術難度最高、價格最昂貴的關鍵設備,是集精密光學、機械、控製、材料等先進科學技術和工程技術于一體,各種尖耑交扠融閤的複雜大繫統產物,它的研髮過程及研髮成果對集成電路產業和信息產業的髮展具有極大地技術帶動作用.其中掩膜—硅片對準是光刻機三大覈心技術之一,對光刻機對準技術的專利申請情況作齣瞭分析,介紹瞭光刻機對準技術的專利申請的分佈特點.
광각궤시집성전로장비중기술난도최고、개격최앙귀적관건설비,시집정밀광학、궤계、공제、재료등선진과학기술화공정기술우일체,각충첨단교차융합적복잡대계통산물,타적연발과정급연발성과대집성전로산업화신식산업적발전구유겁대지기술대동작용.기중엄막—규편대준시광각궤삼대핵심기술지일,대광각궤대준기술적전리신청정황작출료분석,개소료광각궤대준기술적전리신청적분포특점.
