电声技术
電聲技術
전성기술
Audio Engineering
2015年
z1期
21-25
,共5页
浸没式光刻%气泡%精度
浸沒式光刻%氣泡%精度
침몰식광각%기포%정도
浸没式光刻设备能极大地提高光刻的分辨率,促进集成电路的进一步小型化.然而浸没式光刻设备的精度常常受到气泡、水印和颗粒这三种因素的影响,因此,消除气泡的技术是浸没式光刻领域的一大研究热点,从供液系统、物理法、化学法等四个方面对消除气泡的专利技术进行了梳理.最后对本领域重点申请人ASML、尼康株式会社公司的专利进行了分析.
浸沒式光刻設備能極大地提高光刻的分辨率,促進集成電路的進一步小型化.然而浸沒式光刻設備的精度常常受到氣泡、水印和顆粒這三種因素的影響,因此,消除氣泡的技術是浸沒式光刻領域的一大研究熱點,從供液繫統、物理法、化學法等四箇方麵對消除氣泡的專利技術進行瞭梳理.最後對本領域重點申請人ASML、尼康株式會社公司的專利進行瞭分析.
침몰식광각설비능겁대지제고광각적분변솔,촉진집성전로적진일보소형화.연이침몰식광각설비적정도상상수도기포、수인화과립저삼충인소적영향,인차,소제기포적기술시침몰식광각영역적일대연구열점,종공액계통、물리법、화학법등사개방면대소제기포적전리기술진행료소리.최후대본영역중점신청인ASML、니강주식회사공사적전리진행료분석.
