汕头大学学报（自然科学版）
汕頭大學學報（自然科學版）
산두대학학보（자연과학판）
Journal of Shantou University(Natural Science Edition)
2015年
3期
76-80
,共5页
锡掺杂氧化铟%纳米结构%化学气相沉积%场发射性能
錫摻雜氧化銦%納米結構%化學氣相沉積%場髮射性能
석참잡양화인%납미결구%화학기상침적%장발사성능
由于晶格失配,使得直接在硅衬底上生长有序的锡掺杂的氧化铟(ITO)一维纳米阵列非常困难.本文使用化学气相沉积法,利用升温过程中形成的ITO颗粒为生长点,成功地在硅衬底上制备出排列有序的氧化铟锡(ITO)一维纳米结构.对生成物进行了扫描电子显微镜(SEM),X射线能量色散谱(EDS)和X射线衍射(XRD)表征;对其进行的场发射性能测试表明,ITO纳米线阵列的场增强因子大约为1600,有望在冷阴极材料领域得到应用.
由于晶格失配,使得直接在硅襯底上生長有序的錫摻雜的氧化銦(ITO)一維納米陣列非常睏難.本文使用化學氣相沉積法,利用升溫過程中形成的ITO顆粒為生長點,成功地在硅襯底上製備齣排列有序的氧化銦錫(ITO)一維納米結構.對生成物進行瞭掃描電子顯微鏡(SEM),X射線能量色散譜(EDS)和X射線衍射(XRD)錶徵;對其進行的場髮射性能測試錶明,ITO納米線陣列的場增彊因子大約為1600,有望在冷陰極材料領域得到應用.
유우정격실배,사득직접재규츤저상생장유서적석참잡적양화인(ITO)일유납미진렬비상곤난.본문사용화학기상침적법,이용승온과정중형성적ITO과립위생장점,성공지재규츤저상제비출배렬유서적양화인석(ITO)일유납미결구.대생성물진행료소묘전자현미경(SEM),X사선능량색산보(EDS)화X사선연사(XRD)표정;대기진행적장발사성능측시표명,ITO납미선진렬적장증강인자대약위1600,유망재랭음겁재료영역득도응용.
