红外与激光工程
紅外與激光工程
홍외여격광공정
Infrared and Laser Engineering
2015年
9期
2761-2766
,共6页
鲍刚华%程鑫彬%焦宏飞%刘华松%王占山
鮑剛華%程鑫彬%焦宏飛%劉華鬆%王佔山
포강화%정흠빈%초굉비%류화송%왕점산
光学薄膜%电子束蒸发%HfO2薄膜%折射率非均质性
光學薄膜%電子束蒸髮%HfO2薄膜%摺射率非均質性
광학박막%전자속증발%HfO2박막%절사솔비균질성
thin film%electron beam evaporation%HfO2 thin films%refractive inhomogeneity
在加热的BK7基板上,采用电子束蒸发(EB)工艺制备了一系列不同厚度的HfO2单层膜,对HfO2薄膜生长过程中的折射率非均质性进行了研究.光谱分析表明薄膜非均质性与其厚度息息相关.X射线衍射(XRD)测试表明不同非均质性薄膜对应不同的微观结构;薄膜的微观结构主要由薄膜的生长机制决定.当膜厚较薄时,薄膜不易结晶,呈无定形态,此时薄膜呈正非均质性.如果沉积温度足够高,则薄膜达到一定厚度后开始结晶,此后薄膜折射率就会逐渐下降.随着薄膜继续生长,薄膜晶态结构保持恒定不再变化,非均质性也会因此保持不变达到极值.
在加熱的BK7基闆上,採用電子束蒸髮(EB)工藝製備瞭一繫列不同厚度的HfO2單層膜,對HfO2薄膜生長過程中的摺射率非均質性進行瞭研究.光譜分析錶明薄膜非均質性與其厚度息息相關.X射線衍射(XRD)測試錶明不同非均質性薄膜對應不同的微觀結構;薄膜的微觀結構主要由薄膜的生長機製決定.噹膜厚較薄時,薄膜不易結晶,呈無定形態,此時薄膜呈正非均質性.如果沉積溫度足夠高,則薄膜達到一定厚度後開始結晶,此後薄膜摺射率就會逐漸下降.隨著薄膜繼續生長,薄膜晶態結構保持恆定不再變化,非均質性也會因此保持不變達到極值.
재가열적BK7기판상,채용전자속증발(EB)공예제비료일계렬불동후도적HfO2단층막,대HfO2박막생장과정중적절사솔비균질성진행료연구.광보분석표명박막비균질성여기후도식식상관.X사선연사(XRD)측시표명불동비균질성박막대응불동적미관결구;박막적미관결구주요유박막적생장궤제결정.당막후교박시,박막불역결정,정무정형태,차시박막정정비균질성.여과침적온도족구고,칙박막체도일정후도후개시결정,차후박막절사솔취회축점하강.수착박막계속생장,박막정태결구보지항정불재변화,비균질성야회인차보지불변체도겁치.
