物理化学学报
物理化學學報
물이화학학보
Acta Physico-Chimica Sinica
2015年
11期
2151-2157
,共7页
韩永%徐倩%鞠焕鑫%朱俊发
韓永%徐倩%鞠煥鑫%硃俊髮
한영%서천%국환흠%주준발
镍%二氧化锆%模型催化剂%X射线光电子能谱%紫外光电子能谱
鎳%二氧化鋯%模型催化劑%X射線光電子能譜%紫外光電子能譜
얼%이양화고%모형최화제%X사선광전자능보%자외광전자능보
Nickel%Zirconia%Model catalyst%X-ray photoelectron spectroscopy%Ultraviolet photoelectron spectroscopy
利用X射线光电子能谱、紫外光电子能谱和低能电子衍射研究了Ni纳米颗粒在ZrO2(111)薄膜表面的生长模式、电子结构及热稳定性.ZrO2(111)薄膜外延生长于Pt(111)单晶表面,厚度约为3 nm.结果表明,当Ni气相沉积到ZrO2(111)薄膜表面上时,遵循Stranski-Krastanov生长模式,即先二维生长至0.5 ML(monolayer),然后呈三维岛状生长.随着覆盖度的减小,Ni 2p3/2峰逐渐向高结合能位移.利用俄歇参数法分析发现,引起该峰向高结合能位移的主要原因来源于终态效应的贡献,但在低的Ni覆盖度时,也有部分初态效应的贡献,说明Ni在ZrO2表面初始生长时,两者存在较强的界面相互作用,Ni向ZrO2衬底传递电荷,形成带部分正电荷的Niδ+.两种不同覆盖度(0.05和0.5 ML)的Ni/ZrO2(111)模型催化剂热稳定性研究表明,当温度升高时,Ni逐渐被氧化成Ni2+,并伴随着向ZrO2衬底的扩散.本文从原子水平上认识了Ni与ZrO2表面的相互作用和界面结构,为理解实际ZrO2担载的Ni催化剂结构提供了重要的依据.
利用X射線光電子能譜、紫外光電子能譜和低能電子衍射研究瞭Ni納米顆粒在ZrO2(111)薄膜錶麵的生長模式、電子結構及熱穩定性.ZrO2(111)薄膜外延生長于Pt(111)單晶錶麵,厚度約為3 nm.結果錶明,噹Ni氣相沉積到ZrO2(111)薄膜錶麵上時,遵循Stranski-Krastanov生長模式,即先二維生長至0.5 ML(monolayer),然後呈三維島狀生長.隨著覆蓋度的減小,Ni 2p3/2峰逐漸嚮高結閤能位移.利用俄歇參數法分析髮現,引起該峰嚮高結閤能位移的主要原因來源于終態效應的貢獻,但在低的Ni覆蓋度時,也有部分初態效應的貢獻,說明Ni在ZrO2錶麵初始生長時,兩者存在較彊的界麵相互作用,Ni嚮ZrO2襯底傳遞電荷,形成帶部分正電荷的Niδ+.兩種不同覆蓋度(0.05和0.5 ML)的Ni/ZrO2(111)模型催化劑熱穩定性研究錶明,噹溫度升高時,Ni逐漸被氧化成Ni2+,併伴隨著嚮ZrO2襯底的擴散.本文從原子水平上認識瞭Ni與ZrO2錶麵的相互作用和界麵結構,為理解實際ZrO2擔載的Ni催化劑結構提供瞭重要的依據.
이용X사선광전자능보、자외광전자능보화저능전자연사연구료Ni납미과립재ZrO2(111)박막표면적생장모식、전자결구급열은정성.ZrO2(111)박막외연생장우Pt(111)단정표면,후도약위3 nm.결과표명,당Ni기상침적도ZrO2(111)박막표면상시,준순Stranski-Krastanov생장모식,즉선이유생장지0.5 ML(monolayer),연후정삼유도상생장.수착복개도적감소,Ni 2p3/2봉축점향고결합능위이.이용아헐삼수법분석발현,인기해봉향고결합능위이적주요원인래원우종태효응적공헌,단재저적Ni복개도시,야유부분초태효응적공헌,설명Ni재ZrO2표면초시생장시,량자존재교강적계면상호작용,Ni향ZrO2츤저전체전하,형성대부분정전하적Niδ+.량충불동복개도(0.05화0.5 ML)적Ni/ZrO2(111)모형최화제열은정성연구표명,당온도승고시,Ni축점피양화성Ni2+,병반수착향ZrO2츤저적확산.본문종원자수평상인식료Ni여ZrO2표면적상호작용화계면결구,위리해실제ZrO2담재적Ni최화제결구제공료중요적의거.
