光学仪器
光學儀器
광학의기
Optical Instruments
2015年
5期
466-470
,共5页
张一志%冀斌%叶天明%陈进文%朱京涛%吴文娟
張一誌%冀斌%葉天明%陳進文%硃京濤%吳文娟
장일지%기빈%협천명%진진문%주경도%오문연
应力%多层膜%磁控溅射%溅射气压%W/Si
應力%多層膜%磁控濺射%濺射氣壓%W/Si
응력%다층막%자공천사%천사기압%W/Si
stress%multilayers%magnetron sputtering%sputtering pressure%W/Si
研究了不同溅射气压条件下磁控溅射制备W/Si多层膜过程中的应力变化,使用X射线衍射仪测量了多层膜的结构,使用实时应力测量装置研究W/Si多层膜沉积过程中的应力演变.结果表明,在溅射气压从0.05 Pa增加到1.10 Pa的过程中,薄膜沉积过程中产生的压应力不断减小并最终过渡为张应力,应力值在溅射气压为0.60 Pa时最小,研究结果对减小膜层应力具有指导意义.
研究瞭不同濺射氣壓條件下磁控濺射製備W/Si多層膜過程中的應力變化,使用X射線衍射儀測量瞭多層膜的結構,使用實時應力測量裝置研究W/Si多層膜沉積過程中的應力縯變.結果錶明,在濺射氣壓從0.05 Pa增加到1.10 Pa的過程中,薄膜沉積過程中產生的壓應力不斷減小併最終過渡為張應力,應力值在濺射氣壓為0.60 Pa時最小,研究結果對減小膜層應力具有指導意義.
연구료불동천사기압조건하자공천사제비W/Si다층막과정중적응력변화,사용X사선연사의측량료다층막적결구,사용실시응력측량장치연구W/Si다층막침적과정중적응력연변.결과표명,재천사기압종0.05 Pa증가도1.10 Pa적과정중,박막침적과정중산생적압응력불단감소병최종과도위장응력,응력치재천사기압위0.60 Pa시최소,연구결과대감소막층응력구유지도의의.
