中国电子商务
中國電子商務
중국전자상무
CHINA E-COMMERCE
2010年
6期
256-257
,共2页
化学机械抛光%抛光%技术关键
化學機械拋光%拋光%技術關鍵
화학궤계포광%포광%기술관건
60 年代中期以前,传统的机械抛光得到的表面损伤极其严重.针对这种状况,Walsh和Herzog提出以sio2抛光浆料为代表的 CMP 工艺.随着工程技术的发展,CMP技术已经发展成以化学机械抛光机为主体,集在线监测、终点检测、清洗、甩干等技术为一体的化学机械平坦化技术,其技术关键在于抛光液和抛光垫的选择.
60 年代中期以前,傳統的機械拋光得到的錶麵損傷極其嚴重.針對這種狀況,Walsh和Herzog提齣以sio2拋光漿料為代錶的 CMP 工藝.隨著工程技術的髮展,CMP技術已經髮展成以化學機械拋光機為主體,集在線鑑測、終點檢測、清洗、甩榦等技術為一體的化學機械平坦化技術,其技術關鍵在于拋光液和拋光墊的選擇.
60 년대중기이전,전통적궤계포광득도적표면손상겁기엄중.침대저충상황,Walsh화Herzog제출이sio2포광장료위대표적 CMP 공예.수착공정기술적발전,CMP기술이경발전성이화학궤계포광궤위주체,집재선감측、종점검측、청세、솔간등기술위일체적화학궤계평탄화기술,기기술관건재우포광액화포광점적선택.
