分析化学
分析化學
분석화학
CHINESE JOURNAL OF ANALYTICAL CHEMISTRY
1999年
11期
1280-1283
,共4页
阿霉素%电化学行为%离子注入%修饰电极
阿黴素%電化學行為%離子註入%脩飾電極
아매소%전화학행위%리자주입%수식전겁
阿霉素在0.1 mol/L HAc-NaAc(pH 4.62)缓冲溶液中用注入钴的修饰玻碳电极为工作电极进行伏安测定,得到一良好的还原峰,Ep=-0.522 V(vs.SCE).峰电流与阿霉素浓度在1.4×10-7～1.4×10-6mol/L和1.4×10-6～5.6×10-5mol/L范围内呈线性关系.检出限为5.0×10-3mol/L.并用于尿样的测定,得到满意的结果.用线性扫描和循环伏安法研究了体系的电化学行为及电极反应机理.电极反应属准可逆过程.用AES和XPS等表面分析技术检测了注入电极表面的元素组成、价态和深度分布,对离子注入电极的催化性质进行探讨.
阿黴素在0.1 mol/L HAc-NaAc(pH 4.62)緩遲溶液中用註入鈷的脩飾玻碳電極為工作電極進行伏安測定,得到一良好的還原峰,Ep=-0.522 V(vs.SCE).峰電流與阿黴素濃度在1.4×10-7～1.4×10-6mol/L和1.4×10-6～5.6×10-5mol/L範圍內呈線性關繫.檢齣限為5.0×10-3mol/L.併用于尿樣的測定,得到滿意的結果.用線性掃描和循環伏安法研究瞭體繫的電化學行為及電極反應機理.電極反應屬準可逆過程.用AES和XPS等錶麵分析技術檢測瞭註入電極錶麵的元素組成、價態和深度分佈,對離子註入電極的催化性質進行探討.
아매소재0.1 mol/L HAc-NaAc(pH 4.62)완충용액중용주입고적수식파탄전겁위공작전겁진행복안측정,득도일량호적환원봉,Ep=-0.522 V(vs.SCE).봉전류여아매소농도재1.4×10-7～1.4×10-6mol/L화1.4×10-6～5.6×10-5mol/L범위내정선성관계.검출한위5.0×10-3mol/L.병용우뇨양적측정,득도만의적결과.용선성소묘화순배복안법연구료체계적전화학행위급전겁반응궤리.전겁반응속준가역과정.용AES화XPS등표면분석기술검측료주입전겁표면적원소조성、개태화심도분포,대리자주입전겁적최화성질진행탐토.
