分析化学
分析化學
분석화학
CHINESE JOURNAL OF ANALYTICAL CHEMISTRY
2011年
9期
1437-1441
,共5页
徐妍%孙宝利%马超%刘丹%蔡梦玲%吴学民
徐妍%孫寶利%馬超%劉丹%蔡夢玲%吳學民
서연%손보리%마초%류단%채몽령%오학민
X射线光电子能谱%莠去津%双梳型共聚物%吸附
X射線光電子能譜%莠去津%雙梳型共聚物%吸附
X사선광전자능보%유거진%쌍소형공취물%흡부
采用X射线光电子能谱(XPS)研究了双梳型共聚物吸附于莠去津颗粒样品表面的电子状态,计算了吸附厚度.结果表明:吸附后,莠去津颗粒界面的N 1s和Cl 2p谱峰强度明显减弱,Cl 2s几乎消失,而C 1s和O1s谱峰强度则明显增强,这主要是双梳型共聚物中C和O的贡献,且吸附后能在莠去津颗粒界面形成良好的吸附保护膜,其厚度约为15nm.本研究拓宽了X射线光电子能谱仪的应用领域,且对莠去津悬浮剂的稳定机理研究有实际意义.
採用X射線光電子能譜(XPS)研究瞭雙梳型共聚物吸附于莠去津顆粒樣品錶麵的電子狀態,計算瞭吸附厚度.結果錶明:吸附後,莠去津顆粒界麵的N 1s和Cl 2p譜峰彊度明顯減弱,Cl 2s幾乎消失,而C 1s和O1s譜峰彊度則明顯增彊,這主要是雙梳型共聚物中C和O的貢獻,且吸附後能在莠去津顆粒界麵形成良好的吸附保護膜,其厚度約為15nm.本研究拓寬瞭X射線光電子能譜儀的應用領域,且對莠去津懸浮劑的穩定機理研究有實際意義.
채용X사선광전자능보(XPS)연구료쌍소형공취물흡부우유거진과립양품표면적전자상태,계산료흡부후도.결과표명:흡부후,유거진과립계면적N 1s화Cl 2p보봉강도명현감약,Cl 2s궤호소실,이C 1s화O1s보봉강도칙명현증강,저주요시쌍소형공취물중C화O적공헌,차흡부후능재유거진과립계면형성량호적흡부보호막,기후도약위15nm.본연구탁관료X사선광전자능보의적응용영역,차대유거진현부제적은정궤리연구유실제의의.
